掺铝氧化锌(Al-doped ZnO，简称AZO)薄膜是一种具有高透射率和低电阻率的n型半导体透明导电薄膜，广泛应用于各种光学仪器中。随着材料多功能化的发展，对于AZO薄膜来讲，在保持其透明、导电性能的基础上，研究其自清洁性能是很有必要的。本文用溶胶凝胶和磁控溅射两种方法制备了透明导电AZO膜，并对其进行化学刻蚀和表面修饰，得到了兼具透明、导电与自洁性能于一体的AZO膜。通过分析制备工艺，优化实验条件，用XRD、SEM以及AFM等方法对AZO膜表面的结构和形貌进行测试，使用紫外可见分光光度计、四探针测试仪、接触角测试仪等测试光电性能以及自洁性能，并研究了表面形貌与光电性能及自洁性能之间的关系。采用溶胶凝胶法制备AZO薄膜时，提拉次数为12层时，性能最优，此时平均透过率达到87%，面电阻为3.56×10~3Ω/sq，AZO膜厚度约为665nm，表面颗粒大小均一、晶界清晰，方均根粗糙度仅为1.63nm。通过对AZO膜进行化学刻蚀和表面修饰以获得自洁功能，在刻蚀浓度0.5%，刻蚀时间20s条件下AZO薄膜综合性能较好，接触角为147.43°，面电阻为6.76×10~3Ω/sq，平均可见光透过率约为80%，此时方均根粗糙度为68.26nm。采用射频磁控溅射法制备透明导电AZO膜时，功率为200W时，性能最优，此时平均透过率达到80%左右，面电阻为0.55×10~3Ω/sq，得到的AZO膜厚度约为580nm，表面颗粒大小均一、晶界清晰，方均根粗糙度仅为2.13nm。与前同样的方法进行刻蚀和修饰，刻蚀时间30s时，AZO薄膜综合性能最好，AZO薄膜的接触角为138.90°，面电阻为1.97×10~3Ω/sq，平均可见光透过率大约为72%，方均根粗糙度为82.08nm。