【摘 要】
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本文介绍了一种可用于场致发射显示的平面薄膜金属-绝缘-金属型电子发射结构的研制过程。利用薄膜的各种真空溅射沉积技术，在玻璃基片上按一定的工序沉积Cr/Cu-SiO2/Al2O3-Cr/
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本文介绍了一种可用于场致发射显示的平面薄膜金属-绝缘-金属型电子发射结构的研制过程。利用薄膜的各种真空溅射沉积技术，在玻璃基片上按一定的工序沉积Cr/Cu-SiO2/Al2O3-Cr/Cu薄膜，并经过相应的丝网印刷、化学腐蚀等工艺，形成层状交叉的MIM结构。在制备Cr/Cu底电极时，分析了基片加热温度对薄膜表面形貌的影响。在介质层的制备中，主要分析了薄膜沉积速率与溅射气压及溅射功率的关系，并对中频反应溅射制备Al2O3膜的迟滞回线作了重点研究，同时介绍了Ta2O5膜的反应溅射制备。在MIM结构的性能测试上，主要测试了这种结构的I-V特性曲线，以及介质层的耐压性能。通过电子发射结构的改进，基本达到了降低电子场致发射电压的目的,并在显示样屏中已能实现对字符及视频图象的显示
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