采用硅酸盐电解液在AM60B镁合金表面制备微弧氧化膜。通过正交试验设计,以极差分析与方差分析方法研究频率、占空比及其交互作用对膜层厚度、点滴耐蚀性与电化学耐蚀性的影响顺序及影响的显著性。采用数字式涡流测厚仪、扫描电子显微镜（SEM）和X射线衍射仪（XRD）分析膜层的厚度、微观结构与物相。以点滴腐蚀法与动电位极化曲线来表征膜层的耐蚀性。引入熄弧时间与燃弧时间讨论了其影响规律和产生影响的原因。0:0模式下频率、占空比与交互作用对膜层厚度、点滴耐蚀性和电化学耐蚀性的影响顺序均为频率>占空比>交互作用。电参数对膜厚的优方案为（1800Hz,30%）,厚度为20.71μm;对点滴耐蚀性的优方案为（1800Hz,40%）,点滴腐蚀时间为149.1s;对电化学耐蚀性的优方案为（300Hz,20%）,腐蚀电流密度4.549×10^-9A·cm^-2。0:0等效模式下,频率、占空比与交互作用对膜层厚度与点滴耐蚀性的影响顺序为频率>占空比>交互作用,对电化学耐蚀性的影响顺序为占空比>频率>交互作用。电参数对膜厚的优方案为（3600Hz,90%）,膜厚值为19.79μm;对点滴耐蚀性的优方案为（3600Hz,60%）,点滴腐蚀时间为194.3s;对电化学耐蚀性的优方案为（1200Hz,80%）,腐蚀电流密度5.78×10^-9A·cm^-2。1:1模式下,频率、占空比与交互作用对膜层厚度与电化学耐蚀性的影响顺序为频率>占空比>交互作用,对点滴耐蚀性的影响顺序为占空比>频率>交互作用。电参数对膜厚的优方案为（600Hz,45%）,膜厚平均值为17.40μm;点滴耐蚀性优方案为（600Hz,45%）,点滴腐蚀腐蚀时间平均值为106.8s;电化学耐蚀性的优方案为A₄B₄（1800Hz,20%）,腐蚀电流密度平均值为4.57×10^-9A·cm^-2。三种电源模式下频率与占空比对膜层厚度、表面微孔和膜层致密性的影响规律相同。随着频率增大,膜层厚度增大,孔隙率减小,膜层的耐蚀性更好。随着占空比增大,膜层厚度明显增大,膜层表面孔径变大,孔隙率增大,点滴耐蚀性更好,但电化学耐蚀性变差。频率与占空比的交互作用对膜层厚度与耐蚀性有较大影响,交互作用使膜层厚度增大,且抑制了大孔与微裂纹生成,使膜层更加致密。在主要成分为Na₂SiO₃、NaOH和KF的硅酸盐电解液体系下,微弧氧化膜层的主要相组成为MgO和Mg₂SiO₄,由于电解液中KF浓度较低,XRD未检测出膜层中的氟化物,频率与占空比的不同搭配和不同电源模式均对微弧氧化膜层的相组成无影响。单周期内燃弧时间与熄弧时间相同时,0:0等效模式下生成的膜层点滴耐蚀性更好一些,微观缺陷更少;且膜层生长所耗能量略低于0:0模式。