纳米晶氮化碳薄膜制备的研究

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【摘要】

：

本文主要论述了采用弧光放电(Arc Discharge)和直流空心阴极放电(DC Hollow Cathode Discharge)两种方法来制备纳米陶瓷氮化碳薄膜。其中重点研究的直流空心阴极等离子体放电方法是一种新的制备纳米氮化碳薄膜的方法。另外,作为早期的附加工作,还对不同放电方式的等离子体发射光谱进行了研究,其中包括介质阻挡放电(DBD)、空心阴极放电(HCD)和彭宁放电(PD)三种放电方式

【作者】

：

闫永辉

【机构】

：

东华大学

【发表日期】

：

2005年01期

【关键词】

：

氮化碳薄膜直流空心阴极放电弧光放电等离子体发射光谱

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