径向偏振光相对于传统的线偏振光拥有很多特有的优势，它可以利用自己的偏振特点进行粒子的捕捉和操控，在金属的加工和提高显微镜的分辨率上均有巨大的优势。目前，人们已经具备了几种生成径向偏振光的方法，主要分腔内和腔外两种。目前，多层介质膜光栅的计算方法已经成熟，其中T矩阵算法和S矩阵算法都已经成功地运用于光栅的理论计算工作。两种算法具有共同的基础假设部分，但在对多层膜光栅的衍射过程中T矩阵忽略了底层薄膜的反射光的反馈作用，而S矩阵算法则充分考虑到了这一因素。通过对比商用的S矩阵算法程序和自编的T矩阵算法程序，发现在处理多数顶部刻蚀光栅问题时，二者的结果相差无几，只是自编程序在占空比计算上存在局限性，但是在计算稳定性和便捷性上优于基于S矩阵算法的商用Gsolver软件。在本论文的具体工作中，通过基于S矩阵算法的程序和自编的基于T算法的程序，对建立的顶部刻蚀多层膜和底部刻蚀多层膜两种光栅模型进行模拟运算，分别分析了槽深，周期，层数，占空比和入射角对TM/TE两种偏振光的反射率的影响。研究发现这两种光栅模型的TM光反射率均只略微受槽深影响，而对其他因素不敏感；而TE光反射率曲线则会明显受到槽深和周期的影响，而对层数和占空比的影响不敏感。并且通过观察实验结果发现，两种刻蚀的光栅模型均可以通过合适的槽深来实现TM偏振光反射率曲线和TE偏振光反射率曲线在后者的凹陷部分显示出明显的反射率差异，并且可以通过调节周期的方式，将这凹陷部分调节至所需的波段，从而实现特定波段条件下的偏振选择性。通过对顶部刻蚀多层膜光栅和底部刻蚀多层膜光栅的计算结果和分析，并结合了现有的加工条件，确定了采用激光腔内的顶部刻蚀多层膜光栅复合结构的设计方案，通过设计合适的光栅槽深，周期，占空比和层数，利用TM偏振光反射率和TE偏振光反射率曲线的凹陷中心之间存在的反射率差（T M光反射率>98%,TE光反射率<90%），达到抑制TE光、增强TM光的目的从而实现激光腔内1064nm波段径向偏振光的输出。