随着科技的发展和国防的需要,对于光学元件的加工精度要求越来越高,而光学元件的传统机械加工方式会不可避免地在加工表面残留加工痕迹和亚表面损伤,这对精度要求极高的光学元件是致命的。磁流变抛光是一种能够适应复杂形面的可控柔性抛光技术,具有加工适应性好、加工应力小、加工稳定、亚表面破坏层小等优点。为进一步提高磁流变抛光的加工效率和加工质量,开发一种新型的超精密抛光技术对光学元件的工业生产具有重要意义。论文研究的激光辅助磁流变抛光技术是一种针对光学元件超精密抛光的新型抛光方法,具体研究内容如下:（1）分析了抛光过程的受力情况以及抛光区磨粒的运动特性并建立了力学模型和磨粒的轨迹模型;建立了抛光过程中激光的温度场模型并分析了温度对受力的影响规律;在抛光过程中受力、运动轨迹、磨粒微切削原理以及磨粒侵入深度自适应特性的基础上分析了激光辅助磁流变抛光的表面创成过程。（2）基于上述理论研究建立了磨粒侵入工件表面深度的数学模型,提出一种表面轮廓生成算法,编译算法实现工件表面重构以及预测加工表面的三维形貌表征参数。预测了不同工艺参数下抛光得到的表面粗糙度值,并分析了不同工艺参数对抛光表面三维形貌的影响。（3）在激光辅助磁流变抛光理论基础上,自行搭建了抛光实验装置,设计单因素实验研究法的实验方案。通过大量工艺实验研究了在加激光和不加激光情况下不同工艺参数对材料抛光效果的影响,综合分析加工质量和加工效率得出了激光辅助磁流变抛光熔石英能够取得较理想抛光效果的工艺参数范围,并通过对比实验结果和仿真结果验证了仿真模型的准确性,为之后磁流变抛光和激光辅助磁流变抛光技术的研究推广提供了理论基础。论文主要创新点有:（1）建立了抛光过程中激光的温度场模型,得出温度对抛光过程力学特性的影响,分析了激光辅助磁流变抛光的表面创成过程;（2）提出表面轮廓生成算法,编译算法实现工件表面三维形貌重构以及加工表面粗糙度的预测,为激光辅助磁流变抛光的可控性加工提供了一定的理论基础。