薄壁叶片结构光测量反光抑制技术研究

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近年来,随着非接触式检测技术的迅速发展,采用结构光技术对叶片进行三维测量具有精度高、速度快,实时性强等优点,由于金属薄壁叶片表面在检测中产生反光,对结构光测量造成影响,因此在结构光检测过程中对反光抑制的研究尤为重要。首先,结合单目结构光设备及检测原理,对薄壁叶片表面的反光特性进行分析。基于双向反射分布模型,分析了投影仪的入射光线角度和相机的观测角度对叶片表面镜面反射率的影响,确定了投影仪和相机的最佳检测角度,相关参数的优化可以削弱叶片表面产生的较强镜面反射。其次,分析了曝光量对结构光条纹图像的影响,在检测过程中暗房的环境下,进行最优曝光区间标定,确定了检测过程中最优的曝光条件。结合灰度与曝光量的关系特点,建立了光圈的相机响应曲线,针对目前曝光调节方式的特点,提出了一种通过调节光圈与曝光时间结合的方式,可根据环境光线的变化进行自适应曝光调节,使相机一直在最优的曝光条件下工作。再次,针对薄壁叶片反光使结构光条纹图像细节丢失的问题,基于Retinex图像增强算法对条纹图像进行处理。提出了一种改进的双边滤波函数作为Retinex算法中的中心环绕函数,其空域核和值域核可根据邻域灰度的变化自适应调节,对图像进行高光消除,并且有效地保留了条纹的边缘特征信息,提高了相位求解的精度和生成点云的质量。最后,对反光点云进行了光顺处理。采用Kd-tree的方式建立了点云的拓扑关系,基于邻域内采样点法矢量的变化,进行保留特征的精简。通过移动最小二乘法对点云表面因反光产生的波纹进行光顺,提出一种可针对特征点云面积进行自适应半径调整的方法,抑制了点云表面因反光产生的波纹,得到质量较好的点云模型。
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