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本论文主要工作分为两部分：第一部分是利用Leybold LAB600sp磁控溅射系统采用射频与直流磁控共溅射的方法制备了不同组分的Si-ZrO2复合薄膜。实验中,Si的掺杂组分的改变有两种方法实现：一是通过固定ZrO2靶以及Si靶的溅射功率、改变Si靶靶头的倾角角度来实现,并得到了不同温度下退火的样品；利用X射线光电子谱(XPS)表征了不同组分Si-ZrO2复合薄膜的化学组成,研究了不同组分对Si-ZrO2复合薄膜光学性质的影响以及不同退火温度对相同组分Si-ZrO2复合薄膜光学性质的影响。