【摘 要】
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纳米多孔硅研究是90年代初的热点,但一直存在着许多问题,如今研究的目的是选择接触材料,探讨了它们多孔硅发光器性能的影响.该文介绍了多孔硅研究的背景,现状和发展前景,总结
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纳米多孔硅研究是90年代初的热点,但一直存在着许多问题,如今研究的目的是选择接触材料,探讨了它们多孔硅发光器性能的影响.该文介绍了多孔硅研究的背景,现状和发展前景,总结了当前改善多孔硅性能的常用方法和最新进展.表面态对多孔硅发光器件的性能有着极为重要的影响.在实验中,通过选择接触材料TPD、C<,60>、肼类、Alq<,3>和注入In<3+>来改变多孔硅的表面状况,研究它们对多孔硅性能的影响,为硅平面显示器的应用提供基础性的数据.制作出的器件性能测试结果表明,适当的表面态和恰当的制备方法都可以改善多孔硅器件的稳定性、发光强度和发光效率等性能.并对特定表面态的影响结果在理论上的分析与解释.受接触材料来源上的限制,虽然经过处理的器件的性能较多孔硅有很大程度的改善,但这种改善是有限的.多孔硅器件要想走向应用和市场,还需要继续的探索,特别是在优质接触材料研究上的突破.
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