本论文系统地研究了减反射薄膜的设计、优化与镀制工艺。采用单纯形优化方法编制程序，完成了以K9玻璃为基底的减反射薄膜的膜系设计，并对SiO₂、Ta₂O₅单层膜的制备工艺进行了大量的研究，获得在可见光波段具有高透过率的SiO₂／Ta₂O₅多层减反射薄膜样品。 论文首先分析了减反射薄膜的应用、发展现状及展望。 在多层减反射薄膜的设计中，作者从光学薄膜理论出发，利用MATLAB计算机语言，得出多层减反射膜系的设计结果及光谱特性曲线。为得到更好的减反射效果，作者又根据单纯形法的原理对设计膜系进行了优化，得到一个更高透过率的多层减反射膜系，理论透过率在可见光波长范围内可以达到99％以上，并根据优化的理论膜系进行了样品膜系的制备，样品实际透过率达到96％～97％以上，起到了光学增透的作用。 根据多层膜的优化结果，选用折射率为1.52的K9玻璃为基底，并采用射频反应磁控溅射方法制备了SiO₂／Ta₂O₅多层膜，分别研究了沉积工艺参数对单层SiO₂和Ta₂O₅薄膜光学性能的影响，为多层膜沉积奠定了基础。 在工艺研究时，分别分析了氧气含量、基片温度、工作真空度等工艺参数对薄膜的光学性能及结构的影响，确定了单层薄膜的沉积速率。分析结果表明氧气含量对薄膜的折射率影响很大，Ar／O₂混合反应溅射在氧含量大于13％之后可制备出折射率符合设计要求的SiO₂薄膜，而Ta₂O₅薄膜的氧含量需要达到80％以上。基片温度、真空度都是薄膜光学性能的重要影响因素。 最后，利用椭圆偏振仪测量了单层SiO₂和Ta₂O₅薄膜的折射率和厚度，用分光光度计测量了薄膜的透过率光谱曲线，薄膜的微观形貌和结构由原子力显微镜以及X射线衍射仪进行了分析。检测结果进一步验证了各工艺参数对减反射薄膜光学性能的影响。