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透明导电薄膜因其优异的光电特性,一直是人们研究的重点。介质/金属/介质(DMD)叠层透明导电薄膜作为新型无铟透明导电薄膜,金属层和介质层都可改变材料的种类和厚度,所以叠层膜的透过性以及导电性等特性都是可以调控的。并且正是因为可以更换材料,叠层膜成本低,更适合大范围的推广使用。NiO作为一种天然的P型半导体,常被用作光敏传感器,太阳电池的空穴传输层。而将Ni O应用到叠层透明导电薄膜上,却是最近几年才开始的。本实验以NiO作为叠层膜的介质层,利用磁控溅射的方法制备了新型的叠层透明导电薄膜:NiO(t)