稀土镁合金表面制备Ni-B-RE沉积层的研究

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本文研究了用NaBH4做还原剂,NiCl2为主盐,探究前处理方法以及添加剂(氯化铅、镧、钇)对稀土镁合金表面制备Ni-B沉积层质量的影响;NiCO3·2Ni(OH)2·4H2O为主盐,探究前处理方法以及络合剂乙二胺浓度对Ni-B沉积层质量的影响;Ni(CH3COO)2为主盐探究前处理方法、反应温度、反应时间、Na OH浓度、还原剂浓度、添加剂(硫脲、酒石酸钾钠、碘酸钾)对Ni-B沉积层质量或厚度影响;以及稀土元素La、Y、Sm、Gd、Ce、Pr浓度对Ni-B-RE沉积层厚度、导电性、硬度的影响。研究了用DMAB做还原剂,反应温度和反应时间对Ni-B沉积层厚度、导电性、硬度的影响;稀土元素La、Sm、Y、Dy、Pr、Er浓度对Ni-B-RE沉积层厚度、导电性、硬度的影响;以及Dy浓度对Ni-B-Dy沉积层耐腐蚀性的影响。分别用SEM、EDX进行表征,得到结论如下:(1)选用NaBH4做还原剂,Ni(CH3COO)2为主盐,采用直接碱洗的前处理方法,反应温度为80℃,反应时间为60 min,Na OH浓度60 g/L,NaBH4浓度为0.8 g/L时,制备的沉积层质量为0.0865 g,厚度为18.1μm,电阻率为2.65×10-6Ω·m,硬度为946 HV。EDX结果表明,该沉积层中Ni、B元素含量分别为91.83%、8.17%,说明该沉积层为Ni-B层。SEM结果表明,Ni-B沉积层颗粒呈胞状均匀排列但稍不致密。(2)制备条件同(1),当溶液中La浓度为0.05 g/L时,制备的沉积层厚度为1.632μm,电阻率为2.07×10-6Ω·m,硬度为1586 HV;EDX结果表明,该沉积层中Ni、B和La含量分别为93.59%、3.34%和3.07%,制备的沉积层为Ni-B-La层;SEM结果表明,Ni-B-La沉积层颗粒呈胞状紧密排列,具有明显的结节。(3)选用DMAB为还原剂,采用直接碱洗作为前处理方法,反应温度为25℃,反应时间25min,Ni(CH3COO)2浓度20 g/L,DMAB浓度3 g/L,溶液p H为6.4时,制备的沉积层厚度达到135μm,电阻率为5.413×10-6Ω·m,硬度为869 HV;当溶液中Dy浓度为0.05g/L时,制备的沉积层厚度达到236μm,电阻率为5.0×10-8Ω·m,硬度为2285 HV;EDX结果表明,不加入Dy制备的沉积层中Ni、B元素含量分别为94.70%、6.26%,制备的沉积层为Ni-B层;当Dy浓度为0.05g/L时,制备的沉积层中Ni、B和Dy元素含量分别为91.65%、3.13%和5.22%,制备的沉积层为Ni-B-Dy层;SEM结果表明,Ni-B沉积层颗粒呈胞状紧密排列但是大小不均匀;Ni-B-Dy沉积层颗粒呈胞状紧密排列,具有明显的结节;动电位极化曲线结果表明当Dy浓度为0.05g/L时,Ni-B-Dy沉积层自腐蚀电位为-0.157V,稀土镁合金基体自腐蚀电位为-1.599V,Ni-B-Dy沉积层自腐蚀电位相对于基体有正移1.442V,沉积层耐腐蚀性相对于基体有所提高。
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