【摘 要】
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在不同实验条件下使用射频磁控溅射方法合成了非晶CN膜,并对其进行高温退火,使用Raman光谱、XPS光谱、FTIR光谱、AFM、CSR-01划痕试验机和场发射测试系统对CN膜进行了表征.AF
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在不同实验条件下使用射频磁控溅射方法合成了非晶CN<,x>膜,并对其进行高温退火,使用Raman光谱、XPS光谱、FTIR光谱、AFM、CSR-01划痕试验机和场发射测试系统对CN<,x>膜进行了表征.AFM研究结果表明:衬底加100V负偏压对于形成光滑的CN<,x>膜表面是有益的;CSR-01划痕试验机研究结果表明:100V的衬氏负偏压时,形成的薄膜具有最好的附着力.
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