【摘 要】
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通过分析化学机械抛光过程中软质层的形成及其作用过程，研究了使用纳米CeO2磨料进行化学机械抛光时化学作用的机制。分析表明，软质层是抛光液与硅晶片反应形成的一层覆盖在基体
【机 构】
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江苏工业学院材料系,江苏工业学院机械系
【基金项目】
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江苏省自然科学基金资助项目(BK2002010);江苏省高技术项目(BG2004022)
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通过分析化学机械抛光过程中软质层的形成及其作用过程，研究了使用纳米CeO2磨料进行化学机械抛光时化学作用的机制。分析表明，软质层是抛光液与硅晶片反应形成的一层覆盖在基体表面的腐蚀层，其硬度比基材小，厚度在几个纳米左右。软质层的存在一方面增大单个磨料的去除体积，增加材料去除速率；另一方面能减小磨料嵌入硅晶片基体的深度，这对于实现担性磨削，降低抛光表面粗糙度，提高抛光质量，以及改善抛光效果都有着重要的作用。
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