【摘 要】
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用扫描电镜、俄联能谱仪及Ｘ射线衍射技术等实验手段，研究了Ｔｉ（Ｙ）Ｎ膜与基体的界面结构特性及微观机理．结果表明：钇元素的加入出现新相ＹＮ，同时镀层择优取向发生变化，ＴｉＮ镀层以（１１１）、（２０Ｏ）为择优取向，Ｔｉ（Ｙ）Ｎ镀层以
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用扫描电镜、俄联能谱仪及Ｘ射线衍射技术等实验手段，研究了Ｔｉ（Ｙ）Ｎ膜与基体的界面结构特性及微观机理．结果表明：钇元素的加入出现新相ＹＮ，同时镀层择优取向发生变化，ＴｉＮ镀层以（１１１）、（２０Ｏ）为择优取向，Ｔｉ（Ｙ）Ｎ镀层以（２００）为择优取向，且Ｔｉ塑性相增加，Ｔｉ２Ｎ脆性相减少，从而导致Ｔｉ（Ｙ）Ｎ膜基结合力较ＴｉＮ提高１倍。
The interfacial structural characteristics and microscopic mechanism of Ti (Y) N film and matrix were studied by means of SEM, ESSR and X-ray diffraction. The results show that the addition of yttrium has a new phase of YN, and the preferred orientation of the coating changes. TiN coatings are preferentially oriented with (111) and (20O), and Ti (Y) N is preferentially oriented with (200) Phase increases, Ti2N brittle phase decreases, resulting in Ti (Y) N film binding force increased by 1 times compared with TiN.
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