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GaAs图形衬底上InAs量子点生长停顿的动力学蒙特卡罗模拟
GaAs图形衬底上InAs量子点生长停顿的动力学蒙特卡罗模拟
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xianshengh
【摘 要】
:
采用动力学蒙特卡罗模拟方法对GaAs图形衬底上自组织生长InAs量子点的停顿过程进行了研究.用衬底束缚能的表面分布模拟衬底图形,考察生长之后的停顿时间对量子点形成的影响.结果
【作 者】
:
何为
郝智彪
罗毅
【机 构】
:
清华大学电子工程系集成光电子学国家重点实验室
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
2005年4期
【关键词】
:
动力学蒙特卡罗模拟
量子点
外延生长
Kinetic Monte Carlo simulation
quantum dots
epitaxial growth
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采用动力学蒙特卡罗模拟方法对GaAs图形衬底上自组织生长InAs量子点的停顿过程进行了研究.用衬底束缚能的表面分布模拟衬底图形,考察生长之后的停顿时间对量子点形成的影响.结果表明,合适的停顿时间使图形衬底上的量子点分布更趋规则化,对量子点的定位生长有积极的影响.
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