【摘 要】
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自七十年代中期,第一批计算机控制的亚微米对准精度的扫描电子束光刻机问世以来不到十年,一个引人注目的新技术领域──微细加工技术随之发展起来.人类有可能用这新技术来获
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自七十年代中期,第一批计算机控制的亚微米对准精度的扫描电子束光刻机问世以来不到十年,一个引人注目的新技术领域──微细加工技术随之发展起来.人类有可能用这新技术来获得亚微米级(1μm)、毫微米级(nm)的尺寸.电于束光刻在微细加工技术中份演着重要角色.超大规模集成电路
Since the mid-1970s, less than a decade after the advent of the first computer-controlled, submicron-aligned scanning electron beam lithography machines, a compelling new technology area has evolved - It is possible to achieve submicron (1 μm) and nanometer (nm) sizes with this new technology. Electro beam lithography plays an important role in micromachining technology. Very large scale integrated circuits
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