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通过考虑互相关联的光学和工艺参数,设计了3 ̄5μm红外128×128硅衍射微间阵列。阵列中微透镜的孔径为50μm,透镜F数为f/2.5,微透镜阵列的中心距为50μm。采用多次光 离子束刻蚀技术在硅衬底表面制备衍射微透镜阵列。对实际的工艺过程和制备方法进行了讨,对制备出的128×128硅衍射微间阵列的光学性能和表面浮雕结构进行了测量。