【摘 要】
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对 UL SI制备中 Si、 Si O2 等 CMP工艺技术条件 ,尤其是温度对提高全局平面化即平整度、粗糙度 (抛光雾 )进行了深入研究 ,从机理上提出了以化学作用为主的溶除机理 ,确定了
【机 构】
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河北工业大学!天津300130,洛阳单晶硅厂!洛阳471009,河北工业大学!天津300130
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对 UL SI制备中 Si、 Si O2 等 CMP工艺技术条件 ,尤其是温度对提高全局平面化即平整度、粗糙度 (抛光雾 )进行了深入研究 ,从机理上提出了以化学作用为主的溶除机理 ,确定了低温、快速率、大流量的新的技术方法。
The technical conditions of CMP, such as Si and Si O2 in UL SI preparation, especially the improvement of global planarity, ie flatness and roughness (polishing mist), are studied thoroughly in UL SI preparation. Chemical-based dissolution In addition to the mechanism, a new technical method of low temperature, fast rate and large flow rate has been determined.
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