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制备AlN薄膜为绝缘埋层的新型SOI材料

来源 :功能材料与器件学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qwc198762
【摘 要】
：
采用离子束增强技术（IBED）在Φ100mm硅片上合成了AlN薄膜。以速率0.05nm/s蒸发高线Al得到AlN样品，XPS结果证实了成功合成了AlN薄膜，其N／Al比为0.618：1，扩展电阻结果表明其绝缘性能良
【作 者】
：
门传玲 徐政 等 
【机 构】
：
中科院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室,同济大学材料学院微电子所
【出 处】
：
功能材料与器件学报
【发表日期】
：
2002年4期
【关键词】
：
制备 绝缘埋层 ALN薄膜 键合 SOI 离子束增强沉积 氮化铝 AlN film bonding SOI ion-beam-enhanced depositi 
【基金项目】
：
国家重点基础研究专项经费G20000365,国家自然科学基金(No.69976034,No.90101012)
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采用离子束增强技术（IBED）在Φ100mm硅片上合成了AlN薄膜。以速率0.05nm/s蒸发高线Al得到AlN样品，XPS结果证实了成功合成了AlN薄膜，其N／Al比为0.618：1，扩展电阻结果表明其绝缘性能良好，原子力显微镜（AFM）显示其表面平整光滑，均方根粗糙度（RMS）为0.13nm，满足键合需要。利用智能剥离技术（Smart-cut process)成功地制备了以AlN薄膜为埋层的SOI（silicon-on-insulator)材料。剖面透射电镜照片（XTEM）给出了此SOI结构，高分辨T
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