【摘 要】
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本文评论硅化物工艺的最新进展,并讨论单靶溅射、CVD技术、正确实现氧化的条件、自对准硅化物的使用和快速热退火及硅化物的新应用。
This article reviews recent advances
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本文评论硅化物工艺的最新进展,并讨论单靶溅射、CVD技术、正确实现氧化的条件、自对准硅化物的使用和快速热退火及硅化物的新应用。
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