Ti／Al2O3界面的光电子能谱研究

来源 :真空科学与技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：sephinroth

【摘要】

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用X射线光电子谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）研究了Ti／Al_2O_3界面形成的过程。研究表明，活性金属Ti在室温下能与衬底Al2O3（1102）形成约20nm强结合的界面区。从Al，O，Ti的光电子谱形状变化

【作者】

：

陆华张小军

【机构】

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中国科学院物理研究所表面物理国家重点实验室

【出处】

：

真空科学与技术

【发表日期】

：

1995年1期

【关键词】

：

TI/AL2O3 光电子能谱 XPS AES 界面 Interface XPS AES

【基金项目】

：

国家自然科学基金

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用X射线光电子谱（XPS）和俄歇电子能谱（AES）研究了Ti／Al_2O_3界面形成的过程。研究表明，活性金属Ti在室温下能与衬底Al2O3（1102）形成约20nm强结合的界面区。从Al，O，Ti的光电子谱形状变化以及它们随着Ti覆盖度的增加而出现结合能位移表明，在界面处形成的反应层中，最初几个单层的Ti很容易被Al2O3表面的活性氧所氧化，从而使Ti／Al2O3界面逐步由具有更强相互作用的TiOx／Al2O3界面所代替，并形成由多相混合体［Ti-O相，（Ti，Al）2O3相以及金属Al相］所组成的界面

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