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射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性
射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性
来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wanshilong111
【摘 要】
:
采用射频(RF)反应磁控溅射法在n-Si(001)衬底上外延生长ZnO薄膜.XRD谱测量显示出较强的(002)衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的.室温PL谱测量观察到了较强的紫外光发射
【作 者】
:
张源涛
李万程
王金忠
杨晓天
马艳
殷宗友
杜国同
【机 构】
:
吉林大学
【出 处】
:
发光学报
【发表日期】
:
2003年1期
【关键词】
:
射频磁控溅射
结构
光学特性
ZNO薄膜
光荧光谱
氧化锌薄膜
外延生长
ZnO thin film
RF magnetron sputtering
PL
【基金项目】
:
国家高技术研究发展计划(863计划)
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采用射频(RF)反应磁控溅射法在n-Si(001)衬底上外延生长ZnO薄膜.XRD谱测量显示出较强的(002)衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的.室温PL谱测量观察到了较强的紫外光发射和深能级发射.
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