【摘 要】
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以TiCl4和NH3为原料，用常压化学气相沉积法在玻璃基板表面沉积得到了TiN薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电阻仪、紫外-可见光谱仪等研究了喷涂距离（输入TiCl4管道
【基金项目】
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国家自然科学基金（50372060,50672086）资助项目.
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以TiCl4和NH3为原料，用常压化学气相沉积法在玻璃基板表面沉积得到了TiN薄膜。采用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、电阻仪、紫外-可见光谱仪等研究了喷涂距离（输入TiCl4管道末端到基板之间的距离）对沉积的TiN薄膜的结晶性能和表面形貌，以及薄膜的电学性能和光学性能的影响。结果表明：当喷涂距离为5cm和10cm时，玻璃基板表面形成电阻较高、反射率较低的较疏松薄膜。当喷涂距离增加到13cm和15cm时，可以得到结晶良好、低电阻、高反射、致密的TiN薄膜。当喷涂距离进一步增加到20cm以上，得到的薄膜的
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