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在微波等离子体化学气相沉积金刚石膜时，采用负偏压使氢和硼离子轰击金刚石膜表面。发现单纯的氢离子的轰击会导致表面刻蚀，可使(001)面颗粒尺寸增大。用扫描电镜（SEM）和阴极发射光谱（CL）分析了硼离子掺杂后[001]取向的金刚石膜表面，发现CL中A峰消失，表明薄膜中位错密度降低。首次发现CL谱中741.5nm峰和575nm到625nm宽峰明显下降，表明在金刚石膜中,中性空位和氮空位缺陷基本消失,利用小原子穿透理论解释了这个现象。