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GaAs衬底上生长的GaInP_2外延单晶薄膜的杂质污染研究
GaAs衬底上生长的GaInP_2外延单晶薄膜的杂质污染研究
来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:docsecurity02
【摘 要】
:
各种外延技术已被用来在GaAs衬底上生长GaxIn1-xP外延单晶薄膜。很多文献认为,在GaInP2/GaAs生长过程中会被C杂质污染。
【作 者】
:
乐小云
梁家昌
【机 构】
:
北京大学重离子物理研究所,中国民航学院基础科学部
【出 处】
:
发光学报
【发表日期】
:
1999年1期
【关键词】
:
外延薄膜
污染杂质
镓铟磷
砷化镓
复合发光
GaInP2/GaAs epilayers
Sicontaminant
a donoracceptor pai
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各种外延技术已被用来在GaAs衬底上生长GaxIn1-xP外延单晶薄膜。很多文献认为,在GaInP2/GaAs生长过程中会被C杂质污染。
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