纳米印刷光刻技术

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【摘要】

：

介绍了纳米结构制作的一种新方法--纳米印刷光刻的基本原理、总体方案.该技术与其它微刻印技术相比,具有成本低、生产效率高、可批量生产、工艺过程简单等优点.介绍了SiC模板

【作者】

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陈献忠姚汉民陈旭南李展石建平

【机构】

：

中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室

【出处】

：

微纳电子技术

【发表日期】

：

2002年12期

【关键词】

：

纳米印刷光刻纳米结构制作批量生产高效率低成本

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介绍了纳米结构制作的一种新方法--纳米印刷光刻的基本原理、总体方案.该技术与其它微刻印技术相比,具有成本低、生产效率高、可批量生产、工艺过程简单等优点.介绍了SiC模板的制作方法、用纳米印刷光刻技术制作纳米结构的加工步骤及刻印结果.结果表明该技术可制作特征尺寸小于100 nm的图形.本文还展望了其应用于微电子学等领域的前景.

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