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0.7微米i线分步重复投影光刻曝光系统研制
0.7微米i线分步重复投影光刻曝光系统研制
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:yayiyefly
【摘 要】
:
本文介绍0.7μm线分步重复投影光刻曝光系统的技术指标、系统设计,研制中解决的关键单元技术和研制结果。
【作 者】
:
陈旭南
姚汉民
【机 构】
:
中国科学院光电技术研究所
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1997年4期
【关键词】
:
0.7微米i线
微电子技术
光刻曝光系统
0. 7μm
i-line
projection lithography exposure
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本文介绍0.7μm线分步重复投影光刻曝光系统的技术指标、系统设计,研制中解决的关键单元技术和研制结果。
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