论文部分内容阅读
<正> 随着大规模集成电路(LSI)微细化的高速发展,缩小投影透镜自身的极限分辨率和在实际工艺中所使用的设计尺寸之间的数值差别越来越小。同时,设计尺寸的焦深问题已成为人们关注的目标。从64MDRAM的研制成果可以看出:随着集成度的增大,微细化程度的提高,芯片面积也不断扩大。这是LS1的发展趋势。因此,在客观上要