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[期刊论文] 作者：小宫宗治,
来源：固体润滑 年份：1982
作者在介绍真空镀膜的形态,膜与基片间的附着性能及其改进措施,膜晶粒大小与其硬度和机械性能间的关系,几种离子镀金属、合金和碳化物硬质镀层的性能以及镀敷工艺等内容的基...
[期刊论文] 作者：小宫宗治,
来源：固体润滑 年份：1983
七、HCD铬厚膜的性质 1.铬膜表面的观察 在改变基片电压的情况下,用HCD法将铬沉积在纯的多晶铁基片上。该膜的表面形貌采用扫描电子显微镜(SEM)进行观察。为了在观察膜表面...
[期刊论文] 作者：小宫宗治,
来源：固体润滑 年份：1983
十、HCD反应沉积的氮化钛膜 HCD反应沉积氮化钛膜的镀膜条件可反映所镀氮化钛膜的色泽特征,如佐藤等人通过控制N_2、H_2的分压得到了各种颜色的膜。金色的膜经X线衍射分析可...
[期刊论文] 作者：小宫宗治,姜祥祺,
来源：真空与低温 年份：1989
九、不断发展的等离子体离子束应用技术现代半导体工厂第六章介绍了等离子加工中的溅射镀膜技术。第七、第八章介绍了作为清洁真空的基础的超高真空技术,并以表面科学和分子...
[期刊论文] 作者：小宫宗治,姜祥祺,
来源：真空与低温 年份：1989
七、超高真空（一） 清洁真空的获得清洁真空与超高真空技术本章将要介绍清洁真空的获得问题,它与镀膜技术略有偏离。在超大规模集成电路制作中所要求的镀膜技术必然是生长清洁的......
[期刊论文] 作者：小宫宗治,焦淑杰,
来源：真空 年份：1982
一、前言 超高真空技术从50年代初期开始到现在已发展到成熟阶段了。在此期间,宇宙开发竞争使其规模得到巨大发展。粒子加速器和核聚变实验装置的应用,更有助于增加其复杂性...
[期刊论文] 作者：小宫宗治,张志平,
来源：真空技术报导 年份：1972
一、前言 最近市场上出现了一种增大容积吸气剂表面积而获得清洁真空的吸附泵。这种泵比较简便,以前曾与溅射离子泵组合使用。但是,在大多数情况下,与溅射离子泵组合使用的还...
[期刊论文] 作者：姜祥祺,阳锡良,小宫宗治,,
来源：真空与低温 年份：1988
三、最惊人的发展—利用真空的镀膜工业真空镀膜的方法这里将要介绍真空蒸发、离子镀膜、溅射和化学气相沉积等种镀膜方法。对于这些专业性词汇,不少读者可能还不熟悉!本书...
[期刊论文] 作者：姜祥祺,扬锡良,小宫宗治,,
来源：真空与低温 年份：1989
九、不断发展的等离子体离子束应用技术现代半导体工厂第六章介绍了等离子加工中的溅射镀膜技术。第七、第八章介绍了作为清洁真空的基础的超高真空技术,并以表面科学和分子...
[期刊论文] 作者：姜祥祺,阳锡良,小宫宗治,,
来源：真空与低温 年份：1989
什么是离子镀膜?世界上创新的发明,大致都是这样开始的:用略有疑问的眼光去看待那些作为常识的毫无疑问的现象。离子镀膜的情况就是如此。位于沙漠地区的美国新墨西哥卅的阿...
[期刊论文] 作者：小宫宗治,翁国屏,王隽品,
来源：真空 年份：1981
1.产生高密度金属离子的HCD蒸镀法 过去真空蒸镀和溅镀,曾被光学和半导体工业广泛采用,做为一种近乎理想的无公害镀膜法,代替了温式镀膜,但是进入70年代以来,人们对于这些方...
[期刊论文] 作者：姜祥祺,杨锡良,小宫宗治,,
来源：真空与低温 年份：1989
七、超高真空(一) 清洁真空的获得清洁真空与超高真空技术本章将要介绍清洁真空的获得问题,它与镀膜技术略有偏离。在超大规模集成电路制作中所要求的镀膜技术必然是生长清...
[期刊论文] 作者：姜祥祺,杨锡良,小宫宗治,,
来源：真空与低温 年份：1988
本刊从本期将连载日本著名真空科学家小宫宗治先生于1985年在日本正式出版的科普图书—开拓超高真空的世界,全书共分10个部分.小宫宗治先生深入浅出地全面介绍了超高真空技术...
[期刊论文] 作者：山川洋幸,小宫宗治,王耀军,
来源：真空 年份：1983
近来,由于新材料开发的增进和真空装置的多样化,各种新材料都开始在真空方面使用。作为超高真空装置结构材料,也开始试用铝合金、离子镀膜,高真空材料也开始使用纤维强化塑料...
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