两次曝光相关论文
讨论了“冻结”在电子全息图中的位相信息的再现方法.实验结果表明两次曝光技术不但能直接获取位相信息,不需要激光再现,而且能给......
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本文从光散射理论出发，结合Piv成像系统结构模型，推导出了粒子直径与粒子在成像系统上所成像点灰度和的理论关系式，在此基础上，提出了......
该文介绍了用于MEMS工艺中的双层胶两次曝光的剥离技术研究，并通过实验数据对比，说明了双层胶两次曝光工艺对剥离效果的改进，同时还分......
在目前的MEMS加工工艺中，感应耦合等离子体(ICP)深刻蚀工艺是一项独具特色并且具有广泛应用前景的工艺技术。随着MEMS技术在更多的......
该文从挂篮荷载计算、施工流程、支座及临时固结施工、挂篮安装及试验、合拢段施工、模板制作安装、钢筋安装、混凝土的浇筑及养生......
该文介绍了全息干涉计量法测量材料线膨胀系数的实验原理和实验装置.并对具体的样品进行了实验测量,取得了初步的结果,并采取了进......
【正】 1 引言本篇介绍了云纹干涉法的发展历史,光学原理,实验技术,在断裂测试中的应用及其发展前景。本篇采用的一种非常简单的方......
本文讨论了一个时间平均全息照相实验,并简单说明了实验结果,这一实验适合大学实验水准。......
在面内位移的研究中，物体表面的散斑图由透镜的象平面上的底片进行记录，通过变形前后的两次曝光，得到散斑干涉图。散斑干涉图通过富里......
本文介绍一种通过两次曝光来扩展CCD动态范围及曲线拼接的方法。该方法是用不同的曝光时间,得到两幅灰度值不同的图像,对两幅图中......
近年来193nm浸没式光刻炙手可热，不但成了65／45nm节点主流技术，而且在32nm的争夺中也毫不落下风，可能会延伸至22nm，人们甚至一度讨论起1......
本文介绍一种利用全息干涉法对高压合成绝缘子制造缺陷进行无损检测的器。分析研究了这种仪器的工作原理和关键技术。......
用光学方法进行图象加减对图象处理是很有用处的。例如航空、卫星照片。利用图象相减技术可以显示出由于大气扰动、地表自然现象变......
利用LiNbO3:Fe晶体的光响应时间特性，提出了利用简并四波混频相位共轭进行实时两次曝光干涉测量的方法，它具有普通全息干涉计量的实......
2004年,中央电视台曾于3月1日和5月26日两次曝光揭露山东滨州胜利明胶厂、山东博兴兴隆明胶厂等数家明胶厂利用从韩国进口的垃圾革......
计算分析了光纤布拉格(Bragg)光栅中折射率变化分布,折射率变化直流分量对反射旁瓣(Sidelobes)的影响;采用二次曝光技术,用高斯光......
