射频辉光放电相关论文
深入理解大气压条件下气体的击穿机制对于在一定程度上控制气体的放电模式、推动不同类型等离子体源的实际应用具有重要的意义。在......
采用OMA - 4 0 0 0测量了SiH4射频辉光放电等离子体的光发射谱 ,研究了其谱线强度随放电射频功率和反应气体流量间的变化关系。发......
Ｌａｎｇｍ ｕｉｒ探针是诊断等离子体荷电粒子参数的重要手段。本文首次报道了用加热的调谐探针，在抑制了对探针的射频干扰和“中毒效应”之后，对探......
本文研究氧等离子体辐照对纳米银/二氧化钛复合薄膜光催化性能的影响.使用真空蒸发镀方法制备不同含量的纳米银/二氧化钛复合薄膜,......
研究利用射频辉光放电光谱法测定GA板中铁含量,利用粗糙度仪及扫描电镜对辉光放电后的凹坑进行检测,对光谱仪的参数、元素含量在考......
常压射频辉光放电产生的等离子体具有等离子体密度高、均匀稳定等特点，但同时产生的等离子体气体温度高，放电消耗功率高，特别是氩......
在众多等离子体源中,采用裸露金属电极结构的大气压射频辉光放电(Radio Frequency Atmospheric Pressure Glow Discharge,RF APGD)......
在PCVD系统中，用射频辉光放电方法沉积本征a-Si：H薄膜，再经退火固相晶化而形成多晶硅薄膜。通过寻找最优的退火温度，在硅衬底上经过550......
目前,高超声速研究在航空航天领域的地位日益显著,已经成为各个强国争相占据的制高点。而湍流是高超声速研究中最为棘手的问题之一......
该文采用等离子体浸没离子注入与沉积结合射频辉光放电技术,以纯石墨棒和钛棒作阴极材料,乙炔为工作气体,选择合理的工艺参数分别......
学位
等离了体技术在微电子工业和半导体薄膜材料生长等方面有着广泛的应用。用等离子体化学气相沉积(PCVD)技术制备的薄膜质量好,而且......
研究射频辉光放电等离子体中各种粒子运动过程的目的是在于定量理解等离子体参量的时空分布和输运特性的规律,从理论上探求气体放......
为了克服电子束蒸镀技术存在的不足,提高蒸镀薄膜与基体的膜基结合力,从而扩大电子束蒸镀技术的应用范围。本文在实验室原有电子束......
本文主要采用流体动力学的方法，系统地对直流辉光放电、射频辉光放电鞘层区域各个等离子体参量进行了有效的建模和求解，得到了理想的......
该文通过理论和实验全方位地研究实验条件、近表面等离子体输运、近表面沉积粒子分布以及基底表面上薄膜生长之间的条件.首先从实......
纳米Ag具有催化作用[1]，通常与氧化银[2] 或二氧化钛薄膜复合，以获得高的光催化效率。本文采用氧等离子体辐照方法提高纳米Ag 颗......
大气压射频辉光放电是一种产生等离子体的有效方法，它具有低成本(无需昂贵的真空设备)、均匀性好以及产生等离子体密度高等优点。其......
系统研究了射频等离子辉光放电过程中工艺参数对极板自负偏压的影响， 结果表明射频辉光放电过程中下极板上产生的自直流负偏压Ｖ 与电......
采用OMA-4000测量了SiH4射频辉光放电等离子体的光发射谱,研究了其谱线强度随放电射频功率和反应气体流量间的变化关系.发现在放电......
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采用射频辉光放电技术对涤纶春亚纺织物进行表面改性处理，再用浅品色纳米颜料墨水进行喷墨印花，探讨射频辉光放电处理条件对涤纶春亚......
高级多层材料的直接表面和深度分布化学分析要求了解多维信息，包括同时了解元素和分子信息。用飞行时间质谱法（TOFMS）检测的脉冲式射......
完整建立一个关于射频辉光放电CH4等离子体的流体动力学模型.模型包括基于迁移-扩散近似的粒子平衡方程、电子能量平衡方程,共包含......
通过实验研究了脉冲放电射流辅助下大气压氦气射频辉光放电的电学和光学特性。采用组合电极结构,在射频放电前段增加脉冲电极,脉冲......
研究了碳氢气体通过射频辉光放电沉积类金刚石碳膜。研究了射频电压和沉积时间对膜厚和维氏显微硬度的影响。此外,还进行了微动磨......
自行设计组装了射频供能辉光放电原子发射光谱仪器（rf-GD-AES），并对其分析导体试样的基本特性（包括光源的稳定性、电学特性和光谱特性）......
为了克服电子束蒸镀技术的不足,提高蒸镀薄膜与基体的膜基结合力,通过增加射频线圈的方法,在电子束蒸镀沉积过程中实现了射频自体......
通过实验研究了氦气中大气压射频辉光放电产生等离子体的电学和光学特性与射频激发频率的关系,包括气体击穿电压、放电工作在α模......
应用调谐的单探针对氩气射频辉光放电等离子体进行诊断,得到了不遵循双Maxwell分布的电子能量分布函数.经过分析后,指出等离子体振......
设计了一个取样位置能在射频辉光放电等离子体电极间自由移动的取样装置，用质谱计测量了SiCl4等离子体的离子信号.提出了一种线性拟......
大气压射频辉光放电的不稳定性是限制其应用的主要原因,脉冲调制射频技术有助于提高放电稳定性.通过试验诊断放电电学特性,进一步......
建立一维自洽流体数值模型,研究大气压氦气条件下,脉冲辅助射频放电时,脉冲放电对射频起辉及稳态放电特性的影响,着重讨论脉冲放电......
采用在大气压脉冲调制射频(radio frequency, RF)辉光放电段之间同步引入介质阻挡放电(dielectric barrier discharge, DBD)等离子......
采用射频辉光放电等离子体和介质阻挡放电等离子体对聚丙烯(PP)和聚乙烯(PE)进行处理后,使用聚氨酯进行粘接,并测试了混合粘合体的......
作为等离子体干法刻蚀技术的一种,反应离子刻蚀诞生于20世纪70年代。虽然在近几十年里,不断有新的刻蚀方法涌现,但由于反应离子刻......
采用射频辉光放电的方法在含CH的混合气体的常温条件下制备了含碳的薄膜,通过Raman、XRD和SEM分析,检验了薄膜的性质,表明此膜含有......
ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
通过对RF-PECVD技术沉积氢化非晶/微晶硅(a-Si:H/μc-Si:H)薄膜沉积过程中硅烷(SiH4)等离子体的光发射谱(OES)原位测量,系统地研究......
采用ＯＭＡ－４０００测量了ＳｉＨ４射频辉光放电等离子体的光发射谱，研究了其谱线强度随放电射频功率和反应气体流量间的变化关系。发现在放电射频功率增加......
近年来,由于大气压辉光放电产生的等离子体在材料表明处理、薄膜沉积、生物消毒和环境处理等方面体现的应用优势,大气压辉光放电的......
近年来大气压等离子体射流因其设备成本低廉,在材料处理、生物医学领域、废水处理等方面都有广泛应用。大气压等离子体射流相比于......
介绍了纳米粉体材料的RF-ICP射频辉光放电感应耦合等离子体法制备技术及合成系统结构，对制备的纳米SiO2粉体材料进行了分析表征，并对......
射频磁控溅射是一种物理气相沉积技术，已被广泛地用于各种薄膜的制备。它主要包括成膜气相粒子(原子或分子)的产生和输运以及输运到......
聚酯纤维经过半个多世纪的发展,已经成为纺织纤维的重要原料,不仅在民用纺织品领域使用广泛,工业方面的应用也日益重要。传统聚酯......
