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Current developments in optical multilayer design and computation make it possible to calculate filters that satisfy the......
在65和45nm节点,随着新材料和新结构的出现,对薄膜计量的要求变得越来越复杂,可是计量预算更紧张。仅仅在关键制程中监测厚度和折......
Aleris^TM系列薄膜度量系统，从Aleris8500开始，是一套将可用于生产的成份与多层薄膜厚度测定结合在一起的系统。Alefis8500系统以该......
KLA-Tencor公司近日推出Aleris8310和A-1efts8350，在Aleris系列薄膜量测系统中增添了两款新品。这些量测系统采用KLA-Tencor的最新......
应用循环伏安法、X射线光电子能谱法、电化学阻抗谱法以及现场椭圆偏光法研究了在弱碱性介质中添加Cl-对铜电极腐蚀行为的影响.结......
应用循环伏安法和现场椭圆偏光法研究了弱碱性介质中铜的腐蚀、钝化过程,并用二组分有效介质模型对光学实验结果进行了拟合.结果表......
极紫外光刻技术(Extreme ultraviolet lithography-EUVL)是未来22nm节点以下的主流光刻技术。在曝光过程中,光刻机内部EUV多层膜表......
