磁控溅射设备相关论文
依赖于科学直觉与试错的传统材料研究方法日益成为新材料研发的瓶颈，而材料基因组技术可以全面提高先进材料从发现到应用的速度......
KDX 利用真空设备实现光学薄膜的产业化，生产成本低，良率好，生产效率高；利用卷对卷磁控溅射设备生产的ITO、低阻高透导电膜、窗膜......
本文利用磁控溅射设备成功的制备了厚度为100nm的Fe3O4薄膜,并在真空状态下进行了退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)和四探针测......
采用磁控溅射设备,当衬底温度为500℃时,在Si(100)基片上磁控溅射生长Ge/Si多层膜样品.使用Raman和低角X射线技术对样品进行检测和......
本文详细介绍了用于螺旋线镀金薄膜的磁控溅射设备的研制过程。首先明确了该设备的研制难点,其次对设备的主要组成部分进行了详细......
