TFDC电子理论相关论文
TFDC(Thomas-Fermi-Dirac-Cheng)electrontheory用于分析讨论了纳米复合薄膜二极层中电子的特性。根据TFDC电子理论研究和实验测试......
采用电沉积法在Ni基体上制备Cu膜。悬臂梁法在线测量沉积Cu膜后的Ni基片挠度,由测得的挠度值计算出Cu膜内的平均内应力和分布内应......
采用粉末烧结的方法制备出了Cu/Sn扩散溶解层;利用光学和电子显微镜观察了该扩散溶解层的形貌,用X射线衍射和能谱技术分析了该扩散溶......
TFDC(Thomas-Fermi-Dirac-Cheng)electron theory用于分析讨论了纳米复合薄膜二极层中电子的特性。根据TFDC电子理论研究和实验测试......
对六价镀铬的工艺进行研究,在45℃、电流密度为15A·dm^-2时电沉积出光亮平整、无缺陷的铬膜。在此基础上在纯铁基体上电沉积......
TFDC(Thomas- Fermi-Dimc-Cheng)电子理论的核心思想是“材料研究中,界面边界条件起着十分重要的作用,其边界 条件是电子密度处处连......
依据TFDC(Thomas-Fermi-Dirac-Cheng)电子理论的内应力机理预测和阐述了几个重要的实验现象:镀在基底上的膜层中具有很大的内应力;......
采用粉末烧结方法,利用光学显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射和能谱技术,研究了Ni-Zn体系固相烧结时粉末界面处形成的扩散溶解层的......
本研究采用粉末烧结的方法制备Mg-Zn烧结体,利用光学和电子显微镜观察了Mg粉和Zn粉扩散反应区域的形貌,X射线衍射和能谱技术分析了......