利用直流（DC）磁控溅射导电率良好的ZnO：Al陶瓷制备ZnO：Al透明导电薄膜。在不同的温度下对靶的溅射得到的薄膜进行X—ray、AFM、霍尔系......

ZnO：Al（ZAO）薄膜的光学、电学以及结构特性与衬底温度有关，以掺杂质量2％Al的Zn（纯度99．99％）金属材料做靶，采用中频磁控溅射技术研究衬底温度......

利用中频脉冲磁控溅射方法,采用Al掺杂（质量百分比2%）的Zn（纯度99.99%）金属材料为靶材制备平面透明导电ZnO：Al（ZAO）薄膜.利用湿法腐蚀方法......

采用中频磁控溅射工艺，以2％的Al掺杂的Zn（纯度99．99％）金属材料为靶材制备平面及绒面透明导电ZnO：Al（ZAO）薄膜，系统研究了衬底温度、工作气压......

利用中频脉冲磁控溅射工艺制备了低阻高透过率的ZAO薄膜，用湿法腐蚀的方法将制备的平面ZAO薄膜在0．5％的稀盐酸中浸泡一定时间得到绒面......