准分子激光晶化相关论文
多晶硅薄膜由于其高载流子迁移率，优质的电学特性等优势在薄膜晶体管(p-Si TFT)领域中被广泛应用。p-Si TFT的衬底材料通常为典型的......
准分子激光诱导a-Si晶化是低温制备优质p-Si薄膜最有希望的方法.研究准分子激光诱导结晶硅膜的化学、结构特性及脉冲激光作用下a-S......
对poly-Si TFT的制作工艺进行了研究，采用准分子激光晶体法制备了多晶硅薄膜，并以Mo,Al两种金属直接与有源层接触形成源漏电极，对这两......
对准分子激光晶化制备TFT用多晶硅薄膜的研究进展进行了综述。介绍了晶化过程中的超级横向生长现象。主要结合各种基于光束调制和......
系统介绍了金属诱导横向晶化法、准分子激光晶化法、触媒化学气相沉积法（Cat-CVD）以及电感耦合等离子体化学气相沉积法（ICP-CVD）制备低......
低温多晶硅薄膜晶体管（LTPS-TFT）驱动技术是实现大尺寸全彩平板显示的必由之路。然而，传统的低温多晶硅薄膜制作工艺存在着工序复杂、......
为制备高质量的结晶硅薄膜,以工业玻璃为衬底,利用等离子体增强化学气相沉积工艺制备了非晶硅（α-Si）薄膜,然后分别通过固相晶化和准......
目的增加准分子激光晶化最优能量密度的工艺窗口以及提高晶化后多晶硅晶粒尺寸的均匀性,并最终改善低温多晶硅薄膜晶体管(Low Temp......
低温多晶硅薄膜是制备高性能薄膜晶体管的首选材料,由其制成的薄膜晶体管由于在平板显示器件驱动中所展现的优越性能而受到广泛关......
