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采用射频磁控溅射法在Si(100)衬底上制备了AlN薄膜,通过控制工艺参数可以沉积出不同择优取向的AlN薄膜,各工艺参数中射频功率对其择......
用射频磁控反应溅射在石英玻璃和硅片上沉积氧化钒薄膜.利用X射线衍射,X射线光电子谱,原子力显微镜,分光光度计和电阻测量手段对沉......