为了实现ＣｏＳｉ〈，２〉在深亚微米ＣＭＯＳ器件中的应用，作者对钴硅化物自对准工艺作了深入的研究。该文首先详细阐述了采用Ｃｏ／Ｔｉ／Ｓｉ复合膜结构的两步快速热处......

本论文对适用于深亚微米CMOS器件的镍自对准硅化物工艺进行了深入的研究。随着器件尺寸的进一步缩减，与传统的Ti、Co自对准硅化物相......