自支撑金刚石膜相关论文
在30kW级DC Arc Plasma Jet CVD装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,在钼衬底上制备出了复合金刚石自支撑膜,并对其表面和侧面分别进行......
金刚石膜具有更高的热导率，优异的绝缘性能和化学稳定性，是重要的电子器件的热扩散(Heat spreader)材料之一。目前制备金刚石膜......
金刚石具有快的声传播速度、非常高的弹性模量和高的导热性，它与ZnO等压电薄膜的复合材料被认为是当今制作高频声表面波滤波器(SAW)......
在30kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在钼衬底上分别制备了普通微米自支撑膜......
利用大功率DC Arc Plasma Jet CVD装置,采用Ar-H2-CH4混合气体为气源,通过优化工艺参数,在多晶钼衬底上制备出了多层复合金刚石自......
在30 kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在多晶钼衬底上制备了微纳米复合多层......
在研制的高压气动冲蚀磨损实验系统中对自支撑金刚石膜（抛光和未抛光）的冲蚀磨损进行了研究。比较了冲蚀磨料（SiO2，Al2O3，SiC和玻璃珠）、......
使用纳米金刚石粉研磨工艺预处理硅片衬底抛光面，在低气压成核的条件下。以丙酮和氢气为反应物，采用传统的热丝辅助化学气相沉积法，制......
目的 通过等离子体喷射制备不同质量CVD金刚石膜并研究其光学及热学性能,试图建立起两种性能的相互关联性。方法 采用光学显微镜、......
以硝酸锌为原料,乌洛托品为催化剂,采用水热法分别在自支撑金刚石膜及硅基底上制备了ZnO纳米棒。采用场发射扫描电子显微镜、X射线......
为研究沉积的金刚石膜介电性能的影响规律,用光谱学方法研究了大面积自支撑金刚石厚膜的介电性能以及加入不同含量的氮气对化学气......
本发明公开了一种自支撑金刚石膜的制备方法，属于化学气相沉积金刚石膜技术领域。本发明方法首先在硅基片上表面及侧表面预沉积一层......
采用射频磁控溅射法在镜面抛光单晶硅片表面制备Si过渡层,然后以甲烷和氢气为反应气体,采用热丝化学气相沉积法制备金刚石膜,去除......
金刚石膜以其最高的硬度、热导率、热震性能以及极高的强度等优点得到了越来越多的关注。自20世纪低压化学气相沉积技术成功制备出......
采用热丝化学气相沉积（CVD）法制备了自支撑金刚石膜，再通过射频磁控溅射法沉积氧化锌薄膜在自支撑金刚石膜上。通过光学显微镜、扫描......
为了解决金刚石膜脱膜开裂的问题，尝试了一种复合村底，即镀有钛过渡层的钼衬底。利用直流等离子体喷射法在复合衬底上制备了不同厚度......
建立了没有过渡层和有过渡层的有限元模型,对大面积自支撑金刚石膜沉积过程中的热应力进行了研究。分别计算了在常用金属材料钼、......
在30 kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在多晶钼衬底上制备了微纳米复合多层......
在30kW级直流电弧等离子喷射化学气相沉积装置下,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在钼衬底上分别制备了普通微米自支撑膜......
直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜时,电弧区域可分为弧心、弧干和弧边三个区域。本文运用扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射（X......
