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近界面氧化层陷阱相关论文
SiC MOS电容近界面氧化层陷阱的等离子体钝化及电压稳定性研究
碳化硅(SiC)半导体具有优良的物理和电学性能,凭借着禁带宽度大、热导率高、击穿电场高和饱和漂移速率高等优点成为了第三代宽禁带......
学位
SiC MOS电容
近界面氧化层陷阱
电子回旋共振微波等离子体
钝化
电压稳定性
SiO2/4H-SiC MOS界面特性仿真研究
ue*M#’#dkB4##8#”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:(100084川C京市海淀区清华园申请人:清......
学位
4H-SiC
沟道迁移率
MOS C-V
界面陷阱
近界面氧化层陷阱
氧化层固定电荷
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