X射线光刻相关论文
下一代光刻技术(NGL)研究和选择已经成为当前半导体制造行业最为引人关注的热点问题。在这些技术之中,X射线光刻技术被认为是最接近于实用......
LIGA工艺技术包括光刻、电铸和塑铸三个重要环节。而深层同步辐射光刻掩膜技术是X射线光刻应用的关键之一。作者采用聚酰亚胺为衬基,以电......
该文介绍了X射线光刻(XRL)技术的原理和特点,分析了该技术在未来微电子技术中的应用前景。摩尔定律预测,半导体工业在2007年将使用线宽为0.1μm的光......
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