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本文利用甲基丙稀酸甲酯-甲基丙酸缩水甘油酯共聚物研制AWG波分复用器,对器件的抛光工艺进行了研究.器件的端面抛光是AWG在耦合封装时的一个重要步骤,如果解决不好,会严重影响器件的参数.本文通过试验筛选研抛材料及参数,分析抛光工艺存在的问题并进行了较好的解决.
Polymer/Si AWG器件抛光工艺研究
【摘 要】
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本文利用甲基丙稀酸甲酯-甲基丙酸缩水甘油酯共聚物研制AWG波分复用器,对器件的抛光工艺进行了研究.器件的端面抛光是AWG在耦合封装时的一个重要步骤,如果解决不好,会严重影
【机 构】
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集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区(长春)
【出 处】
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中国有色金属学会第八届全国MOCVD学术会议
【发表日期】
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2003年期
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