椭偏仪相关论文
本征氢化非晶氧化硅(i-a-SiOx:H)是a-Si:H/c-Si异质结太阳电池中重要的钝化材料之一。本文采用PECVD法研究不同沉积衬底温度下n-Cz......
目前5G通信已经开始商用,同时人们也开始部署6G通信的蓝图。6G通信频段已经到达太赫兹被段,这就需要人们清楚地了解物质在太赫兹波......
在椭圆偏振仪测量原理的基础上，采用Forouhi-Bloomer模型的参数匹配模型，分析非晶硅的物理性质，利用温度与禁带宽度间的关系，得到利用......
We report a non-destructive characterization of planar two-dimensional (2D) photonic crystals (PhCs) made in silicon on ......
基于椭偏仪实验测量的材料表面镜反射率谱数据，分析和结合了多种常用的光滑样片模型的优点，提出了适用于光滑样片的镜反射率谱模型。......
光谱,不仅能反映出低能态的带内电子响应,还可考察电子在能带之间从占据态向未占据态跃迁的现象。在众多光学表征手段中,椭圆偏振......
基于单晶硅原子计数原理实现阿伏加德罗常数精密测量以及质量千克单位的复现,需要测量单晶硅球体的质量和体积,球表面几个纳米厚的......
Pt Se2是一种新型的过渡金属硫化物,具有室温下超高的载流子迁移率,空气中较高的稳定性等优良的物理性质。此外,其能带结构、吸收......
斯托克斯椭偏仪可快速测量光束的偏振态,仪器矩阵的精确测量是斯托克斯椭偏仪一项非常重要的技术。为提高仪器矩阵的测量精度,基于......
随着硬盘(HDDs)面记录密度的增加,读写数据时磁头的飞行高度不断降低。磁头与磁片表面液体润滑膜的接触,会在表面形成半月板,或润......
测量在空气和真空中３０８ｎｍ准分子激光对Ｃ６０薄膜的刻蚀速率和刻蚀阈值，讨论了环境中氧气对刻蚀特性的影响。
The etching rate and etching t......
讨论了在单晶锗上为获得单波段（３～５μｍ）及双波段（３～５μｍ、８～１２μｍ）兼容ａ－Ｃ：Ｈ增透膜所必需的膜系设计，及用椭偏法对该膜进行的增透结果分析。结果表明，ａ－Ｃ：Ｈ膜是理......
玻璃基片上的ＳｉＯ２膜已在液晶显示器件制造业中得到了广泛应用。ＳｉＯ２膜的性能在很大程度上决定了液晶显示器件的化学稳定性及使用寿命。ＳｉＯ２膜致......
采用乙烷气体辉光放电法在单晶Si衬底上制备了名义厚度分别为75,150和250nm的类金刚石碳(DLC)薄膜,除沉积时间外其他工艺参数完全......
提出了一种用X射线反射术标定光谱椭偏仪的方法.作为一种间接测量方法,光谱椭偏术测得的薄膜厚度依赖于其光学常数,不具有可溯源性......
利用电子束热蒸发技术在两种不同粗糙度的K9玻璃和一批单晶硅基底上沉积了单层二氧化钛(TiO_2)薄膜,并对这些样片进行了氧离子后处......
本论文阐述了用真空蒸镀法制备C60薄膜的方法和过程，研究了在不同气氛下生长和掺杂对C60薄膜的表面形貌、结构和光吸收特性的影响；用......
该文的工作主要是集中在椭圆偏振光谱仪的介绍、研制、制作及其数据测量和分析上.实验中研制了一台旋转起偏器光度式CCD椭圆偏振光......
在偏光技术中，相位延迟器(或波片)可以将线偏振光转化为椭圆偏振光、圆偏振光，即实现偏振光的转换，因此是一类重要的偏光器件。如何精......
应用蒸发镀膜方法,分别在室温和液氮温度(77K)玻璃基底上制备了银薄膜样品。对两种样品的微观结构和光学性质进行了对比研究,微观......
本文利用磁控溅射的方法生长不同Cr插层厚度的Pd/Cr/Co多层膜,并利用椭偏仪对多层膜的光学常数进行测量。得到了入射光波长在250nm......
通过椭偏仪对生长在蓝宝石上的不同厚度氮化铝薄膜的变温光学性质进行了研究,并采用托克-洛伦兹模型对椭偏实验数据进行了拟合分析......
磁光调制锁相椭偏仪采用交流法拉第磁光调制及相敏检波来检测消光点,具有抗干扰能力强,角分辨能力高等优点.本文采用了自制的关键......
分别以丙醇锆和正硅酸乙酯为原料,采用溶胶-凝胶工艺制备了性能稳定的ZrO2和SiO2溶胶。用旋转镀膜法在K9玻璃上分别制备了单层SiO2......
利用直流(DC)磁控溅射方法制备氢化非晶硅(a-Si∶H)薄膜。研究了氢气流量、溅射源功率对膜的沉积速率、氢含量(CH)以及光学性能的......
采用磁控溅射方法在硅片上制备了不同氮偏压下的非晶GaAs1-xNx薄膜,结合拉曼光谱仪和椭偏仪等手段对样品进行了表征.结果表明,掺入......
期刊
用溶胶-凝胶技术,采用提拉镀膜法在K9玻璃基片上镀制了ZrO2/SiO2双层膜和SiO2/ZrO2双层膜,研究了这两种膜层之间的渗透问题.用X射......
以正硅酸乙酯为前驱体,氨水作催化剂,采用溶胶-凝胶法提拉镀制SiO2双面膜,对薄膜进行氨处理和热处理。采用椭偏仪、分光光度计、红......
提出了一套对椭偏仪的测量误差进行有效修正的方案，设计了一个Windows版的椭偏仪测厚数据处理软件，并在该软件中嵌入了对测量数据的......
斯托克斯椭偏仪一般使用定标的方法来测量其仪器矩阵,其仪器矩阵的优劣直接影响了被测光线斯托克斯参量的精确度与稳定度,从而影响......
介绍了一种基于Labview的消光式椭偏仪光学测量系统，用于进行透明薄膜厚度的精确测量。研究并推导出消光式椭偏仪光学系统的数学模......
介绍了椭偏仪实验装置及实验调整的不足对薄膜参数测量的影响，制作了小孔光阑和可调位移平台，对光接收和实验调整做了改进，给出了改进......
应用层层自组装技术（LBL）构筑聚电解质多层膜的过程中,组装溶液的离子强度对组装过程有特殊影响.采用紫外分光光度计与椭偏仪同时监......
本文介绍了一种基于Labview的光度式椭偏仪光学测量系统,用于进行透明薄膜厚度的精确测量.研究并推导出该系统的数学模型及椭偏参......
利用反射式椭偏仪测量SiO2光学薄膜材料的光学常数（折射率n和消光系数k）和厚度，并且对测量结果进行建模和线性拟合，同时获得多个参数Is......
文章采用真空磁过滤电弧离子镀法在单晶Si（100）基片上成功制备了氮化铝（AlN）薄膜,并利用椭偏法对AlN膜进行了研究。根据沉积方法的特点......
用溶胶-凝胶工艺在碱性催化条件下，采用旋转镀膜法在K9玻璃上分别制备了性能稳定的单层SiO2薄膜与单层ZrO2薄膜。用反射式椭圆偏振......
为了获得折射率信息，采用UT300-FPD型椭偏仪对5mm×10mm×1mm铌酸锂晶体及注入镓的铌酸锂晶体波导的双折射特性进行了测量......
摘 要：本文采用椭偏仪（SE）测量了不同厚度的Co 纳米薄膜的椭偏参数（Ψ和Δ），结合薄膜的特性，建立最优的模型，获得了薄膜的厚度及光学性能。......
为了研究薄膜样品的倾斜程度对椭偏法测量薄膜参数的影响,运用椭偏法测量原理及Matlab软件,分析与计算了薄膜样品的倾斜度对测量薄......
采用射频反应磁控溅射法制备了HfOxNy栅介质薄膜，并研究了HfOxNy栅介质薄膜的光学特性随淀积温度的变化而发生变化的规律．椭偏仪模拟......
使用WVASE32型椭偏仪, 对Si基单层有机薄膜的测量方法进行分析; 并对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)材料和氟化聚酯材料进行测量, 根据测......
为了获得ZrO2薄膜的光学常数,采用了德国SENTECH生产的SE850宽光谱反射式光谱型椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在K9......
指出一些实验教材中关于椭偏仪实验原理的一个不确切提法,并给出了详细的分析....
