TiNi形态记忆薄膜的光刻新工艺

来源 :中国仪器仪表学会第三届青年学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：joylisten

【摘要】

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TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一.研究了剥离工艺(lift-off)用于TiNi薄膜图形化的可行性,并首次利用溅射的金属Pt作掩膜进行TiNi薄膜湿法腐蚀.结

【作者】

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曲炳郡李路明王立鼎夏善红

【机构】

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大连理工大学微机电系统研究中心(大连)

【出处】

：

中国仪器仪表学会第三届青年学术会议

【发表日期】

：

2001年期

【关键词】

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形态记忆形状记忆薄膜光刻工艺湿法腐蚀掩膜材料器件制作溅射关键技术剥离工艺图形化抗腐蚀致密理想金属

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TiNi形状记忆薄膜光刻工艺是此类MEMS器件制作的关键技术之一.研究了剥离工艺(lift-off)用于TiNi薄膜图形化的可行性,并首次利用溅射的金属Pt作掩膜进行TiNi薄膜湿法腐蚀.结果表明:溅射的Pt在HF/HNO<,3>.H<,2>O腐蚀TiNi过程中,具有抗腐蚀力强、与TiNi结合致密、不漂起的特点,是TiNi薄膜长时间腐蚀的理想掩膜材料.

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