【摘 要】
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In_2O_3基透明导电薄膜由于其独特的光学和电学性能：可见光区域的高透过、红外区域的高反射以及低的电阻率，而在光电器件特别是平板显示方面具有极其广阔的市场，因此，开展透明导电薄膜的制备及其特性研究有很好的实际意义。本论文针对透明导电薄膜的制备、后续热处理以及薄膜光学常数的求解等方面展开研究，具体内容有：首先，采用给定物理限制条件的方法来优化拟合薄膜可见光区域的正入射透射光谱计算Nb_2O_5光学
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In_2O_3基透明导电薄膜由于其独特的光学和电学性能：可见光区域的高透过、红外区域的高反射以及低的电阻率，而在光电器件特别是平板显示方面具有极其广阔的市场，因此，开展透明导电薄膜的制备及其特性研究有很好的实际意义。本论文针对透明导电薄膜的制备、后续热处理以及薄膜光学常数的求解等方面展开研究，具体内容有：首先，采用给定物理限制条件的方法来优化拟合薄膜可见光区域的正入射透射光谱计算Nb_2O_5光学薄膜和透明导电的ITO薄膜的光学常数和厚度。结果表明，拟合和测量的光谱曲线非常吻合，得
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