【摘 要】
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该论文运用射频溅射法制备了钴铬钽薄膜样品,并作了以下几方面的研究:(1)首先,在玻璃和硅基板上直接溅射CoCrTa薄膜,研究了溅射气压、Ta原子百分含量对磁性能的影响,确定了合
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该论文运用射频溅射法制备了钴铬钽薄膜样品,并作了以下几方面的研究:(1)首先,在玻璃和硅基板上直接溅射CoCrTa薄膜,研究了溅射气压、Ta原子百分含量对磁性能的影响,确定了合适的溅射气压和薄膜的组成成分.接着,对两种不同Ta原子百分含量的CoCrTa薄膜分别研究了它们的温度特性,发现温度特性有较丰富的内容,温度对微观结构和磁性能很大的影响,而Ta在构织优异的磁记录薄膜中扮演了重要的角色.(2)为了进一步提高磁性能需要引入Cr衬底,该文接着又对Cr衬底的制备工艺作了较完整的研究,从而是确定了最佳溅射条件.并深入地研究了Cr守底厚度和工片温度对晶体结构和磁性能的影响.
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