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中科院分子影像重点实验室申请的“基于FFL的磁粒子成像三维立体重建方法、系统、装置”(ZL201910637247.7)和“基于无磁场线扫描的磁粒子成像系统”(ZL201910637709.5)两项国家发明专利已经通过国家知识产权局的审查。其中“基于FFL的磁粒子成像三维立体重建方法、系统、装置”的授权发明专利同时获得美国发明专利的正式受理(美国专利受理号:US 16907334)。这标志着中科院分子影像重点实验室在新型磁粒子成像核心关键技术的知识产权保护上迈出了关键性的一步。