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抛光片表面总厚度变化是衡量砷化镓抛光片表面质量的重要几何参数指标 ,对后序的器件工艺及集成电路工艺有着至关重要的影响。通过对影响总厚度变化的抛光液组分进行实验分析 ,在抛光工艺中采用化学机械抛光的方法抛出合格的双面抛光片 ,采用统计的方法对测得的总厚度变化数据进行分析 ,找出合适的抛光工艺
砷化镓抛光片总厚度变化研究
【摘 要】
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抛光片表面总厚度变化是衡量砷化镓抛光片表面质量的重要几何参数指标 ,对后序的器件工艺及集成电路工艺有着至关重要的影响。通过对影响总厚度变化的抛光液组分进行实验分析
【机 构】
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电子四十六所
【出 处】
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半导体情报
【发表日期】
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2001年05期
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