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不同偏置电压下SiGeHBTEarly电压的理论研究
不同偏置电压下SiGeHBTEarly电压的理论研究
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gaoq183
【摘 要】
:
Early电压VA和直流增益β是双极器件在模拟电路中应用的重要参数,本文研究了在器件不发生大注入效应和雪崩倍增效应的条件下,SiGe中基区Ge含量以及VCE对器件的Early电压VA的影响,并用数值计算的方法得到
【作 者】
:
钱伟
金晓军
【机 构】
:
清华大学微电子所
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1998年4期
【关键词】
:
锗化硅
HBT
应变层
Early电压
Bipolar transistors
Semiconducting silicon compounds
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Early电压VA和直流增益β是双极器件在模拟电路中应用的重要参数,本文研究了在器件不发生大注入效应和雪崩倍增效应的条件下,SiGe中基区Ge含量以及VCE对器件的Early电压VA的影响,并用数值计算的方法得到了其它参数相同情况下。
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